光刻機的名字出現後發生了什麼鉅變

光刻是透過光子匯入單一非線性的熱源，進行多次曝光和退火獲得soisubstrate的過程。然而，「光刻機」的名字其實是一個大家都不陌生的名字。今天，這個名字又重新出現在了我們眼前。光刻機的大名即sensortechnologychip（stc），2004年被用於人工智慧晶片，是一個也是最好的ai晶片（asic）之一。

1986年，斯坦福大學的johnheyman提出用光柵或紅外光柵代替場板進行光刻工作，進而在ibm和nvidia的相容光學系統中運用，並發展出可用於各種光學器件的光柵光刻系統。光柵光刻技術是一門技術非常傳統的光學技術，其光刻裝置簡單、精度高。原理與數位電路鐳射焊接術如出一轍，裝置的主要目的是透過特殊光路將入射光變成特定波長的紅外光經多次曝光（可分為多道光路），最終獲得單個基材或脈衝內畫素的光刻圖形。

目前，光柵光刻又可分為多光路線（mosa，multi-automaticscanning）方式，單光路線（single-automaticscanning），單光子柵（univariantscanning）方式，雙光子柵（double-automaticscanning）和模板光刻（printedcircuittechnology）等多種不同的光刻機型別。縱觀全球光刻機的發展歷史，2004年johnheyman出於解決矽光的玻璃基板尺寸問題而提出了stc，然而後來光刻機的一些工藝引數，比如畫素高度（density）、畫素寬度（devicewidth）、每個畫素的密度（sharpness），現在看來都比較簡單：亮度（lightpatternratio）和畫素尺寸（density）不變。

但是畫素層寬（lutboundaries）的增大，高密度畫素的尺寸（density）增大，最後光刻機使用的最基本光學元件——光柵就變得十分不好加工，在之後的研究中，最有發展潛力的光刻方法只剩下stc型別的光刻機了。單絲不成線，單線不成面。要達到stc型別的光刻線寬尺寸，不僅需要先要佔據一個有限的面積，光刻機上需要佈滿非常密集的光學元件。為了儘可能提高光刻機的製造效率，節省加工成本，保證光刻機的穩定性和可靠性，就需要採用多光路線光刻和漸變（fractal）光刻來生產畫素圖形。

每一道光線都是一個簡單的閉合平面，每個黑白相間的畫素只能覆蓋單個平面，與其說是畫素，不如說是一個完整的平面。光刻完成的一刻，最終的圖形就出現在現實中。理論上來說，3d圖形可以包含無數個小平面，1。3d可以包含無數個小球，無限的立體可以無限放大。不過現實的光刻機卻很難實現這樣無限的精度和大小，如果使用不同的光線，每個小的基體上的光敏材料不同，會造成光刻機的反光面變化。