華為研發EUV光刻機新成就,新專利或打破AMSL封鎖2022-11-28 TAG: 光刻機EUV華為勻光專利今日,博主@廠長是關同學爆料稱“華為近期公開了一個關於光刻方面的專利該專利申請於2021年5月13日,專利主要講述反射鏡,光刻裝置及其控制方法這個專利技術描述中,涵蓋極紫外光方面的相關技術,也就是說華為也在研究光刻機極紫外光的新專利,看來華... [ 檢視更多... ]