晶片巨頭再次破冰，國產7nm工藝曝光新進展，華為轉機來了？

12月4日，科創板中芯國際在互動平臺上曝光了國產版的7nm工藝晶片製造技術的新進展，中芯公司第一代FinFET14奈米已於2019年四季度量產；第二代FinFETN+1已進入客戶匯入階段，可望於2020年底小批次試產。

中芯國際聯合CEO梁孟松表示，FinFET N+1工藝在功率和穩定性方面和7nm工藝非常相似，最大的特點是不需要EUV光刻機。原來，中芯國際公司使用ASML公司的DUV光刻機也能生產7奈米及以上製程晶片，而且價格要比EUV光刻機低很多。不同的是，EUV光刻機只要一次曝光，就能實現7奈米工藝晶片的製造，而用DUV需要多重曝光。

不僅如此，在之前有報道稱，IP和定製晶片企業芯動科技已完成全球首個基於中芯國際FinFET N+1工藝的晶片流片和測試，所有IP全自主國產，功能一次測試透過，與14nm工藝相比，效能提升了20%，功耗降低了57%，邏輯面積縮小了63%，SoC面積減少了55%。毫無疑問，中芯國際正式官宣的技術突破，對於國內晶片產業來說是難得的好訊息，也標誌著“中國芯”再次破冰！

作為中國最優秀科技公司之一，華為在半導體晶片方面的實力是很強的，它旗下的海思是全球排名前十的晶片設計巨頭！但不幸的是，大陸晶片製造能力比較弱，因此十多年來，華為一直依賴臺積電為其代工晶片。

然而美國政府多次升級針對華為的晶片進口貿易規則，9月15日之後，華為自研麒麟晶片和從其他廠商採購晶片的途徑都被切斷了。在這種局面下，中芯國際被很多國人視為華為晶片供應的希望。那麼inFET N+1工藝破冰之後，華為是否能迎來轉機？或者說中芯國際能否成為華為代工呢？

美方針對的是晶片製造，晶片製造最關鍵的是光刻機，在第三屆進博會上，ASML明確表示，DUV可以供應中國，不受美國禁令影響，而中芯第二代FinFETN+1工藝恰好不需要EUV光刻機。另外，DUV（深紫外線）光刻機更是能從尼康、佳能那裡找到替代。

其實，中芯公司就實現14nm生產線的大規模量產之後就與華為合作了，榮耀Play4T搭載的麒麟710A處理器就是中芯國際生產的。如今，中芯國際的 n + 1工藝取得了重大突破，只要移除美國技術的生產工藝，實現所有IP全部國產化，就可以為華為提供晶片生產了。估計美方也沒有料到，重重壓力之下，中芯國際能夠取得如此大的突破，未來晶片代工市場格局也可能發生變化！

晶片巨頭再次破冰，國產7nm工藝曝光新進展，華為迎來轉機，對此，你有什麼想說的嗎？